黎明出现了，国内沉浸式DUV光刻机器即将到来？

当前的芯片制造过程依赖于光刻过程，因此光刻机器是最重要的基本设备之一。但是每个人都知道，目前的国内光刻机器水平实际上远离世界领先水平。如下图所示，中国上海微电子中最强大的光刻机器具有90纳米的节点，该节点处于低纤维水平。这90nm实际上是干燥的DUV光刻机器的水平。在干道的顶部，有DUV，然后是EUV光刻机器。不同的光刻机器对应于不同的光刻过程，并且与不同水平的芯片制造相对应。这一一对一字母如下图所示。 DUV -HOSTESS属于第五代，可以生产7nm芯片，并且是品尝，最终也可以制作5nm的芯片。但是在5nm以下，应使用EUV光刻机器。目前，ASML的EUV光刻机器未出售给我们，高端DUV光刻机器都限于销售。因此，对于我们来说，更不用说EUV的开发，我们必须首先开发一台美味的DUV光刻机器，以便我们不必担心制作5nm的芯片。从当前的情况来看，杜威人离我们不远。实际上，湿的DUV与Dry Duv没有什么不同。只有将一层水添加到晶片中，以使光进入水并折射。那么193nm的长度等于134nm。这样，如果长度短，则分辨率将改善。因此，轻型资源，镜头，工作台等几乎是同一。将沉浸系统层添加到工作台上，这是一层水，并且存在这样的基本链接。几年前，中国报告说，它已经发展出颤抖的系统并取得了一些成功。现在已经过去了几年，我认为应该有一个突破。去年，家用氩氟化物石版画Y机器暴露于中国。这台光刻的机器的长度为193nm，≤65nm的分辨率和精度切割≤8nm，这是干duv的最高水平。因此，下一个DUV实际上与我们很近是有道理的。当我们有侮辱性的DUV时，我们还可以使用自己的光刻机器生产5NM芯片。我们记得什么？此外，在EUV级别上，Thechina生成了EBL电子束技术和纳米印版的技术，并开发了开发。将来也可能会错过EUV。因此，国内光刻机器实际上是在爆发前夕。如果您不相信，请拭目以待。回到Sohu看看更多